事件總覽：汎銓科技為捍衛其在矽光子領域具寡佔地位的「光損偵測裝置」核心專利，在歷經專利挑戰並擴大國際佈局後，近期正式對同業光焱科技提起侵權訴訟，要求高達新台幣兩億元的損害賠償，堅定展現捍衛台灣高科技智慧財產權的決心。
話說回來，這不只是一場單純的專利訴訟，更是一場關於台灣科技產業未來競爭力的保衛戰。汎銓科技在半導體高階先進製程材料檢測分析與矽光子檢測領域，可是握有全球領先的關鍵技術。他們的業務版圖橫跨美國、台灣、日本等重要市場，這次選擇透過法律途徑，就是為了避免台灣在國際上賴以立足的科技根本，面臨肆意損害甚至技術外流的疑慮。
其實，汎銓科技此番提告光焱科技，核心在於捍衛其自主研發的「光損偵測裝置」發明專利，該技術能精準定位矽光子元件在光傳輸中的損耗，對於AI伺服器與高速資料中心不可或缺的矽光子技術發展具有關鍵價值。透過法律行動，汎銓不僅尋求新台幣兩億元的損害賠償，更旨在樹立台灣科技產業對於智慧財產權保護的最高標準，避免核心技術外流，確保台灣在全球半導體供應鏈中的領導地位。
📅 2025年6月：核心專利有效性首度受挑戰
有趣的是，早在2025年6月，汎銓的這項關鍵專利就曾遭遇過挑戰。當時，另一家同業向專利局提出多達17項舉證，企圖撤銷汎銓所擁有的中華民國第1870008號「光損偵測裝置」發明專利。這直接顯示了這項技術在業界的關鍵地位與市場潛力，也預示著未來潛在的專利競爭。
📅 2025年11月：專利護城河獲鞏固
不過，經過專利局的審慎判定，在2025年11月確認汎銓的專利依然有效存在。汎銓董事長柳紀倫就曾自信地指出，這證明了公司的專利護城河「非常強壯」。這次的判定不僅鞏固了汎銓在矽光子檢測領域的技術領先地位，也為其後續的市場擴張奠定了堅實基礎，讓他們能更無後顧之憂地投入研發與佈局。
📅 近期25日：正式提告光焱科技侵權
而就在本月25日，汎銓科技正式宣布，因發現同業光焱科技涉嫌侵犯其「光損偵測裝置」專利相關之設備及技術方案，已向智慧財產及商業法院提起訴訟。汎銓主張光焱科技侵害其所擁有的發明專利，並請求高達新台幣2億元的損害賠償。此舉不僅是為了維護公司長期投入研發所產生的競爭優勢，更是為了避免台灣最重要的科技產業技術面臨肆意損害並外流的潛在疑慮。
📅 2026年底：新世代量測設備發表在即
隨著AI資料中心與高速運算對矽光子技術需求快速提升，汎銓科技也同步擴展其營運模式。預計在2026年底，汎銓將舉辦一場機台發表會，並規劃於2026年底至2027年間，正式推出適用於量產端（PD）及品質驗證（QA）所需的矽光子測試設備「MSS HG」。這款新機台正在進行外觀與機構的全面升級，包括採用黑色鋼琴烤漆外殼、優化內部理線以利後續維護，並將導入自製的可升降載台，以滿足12片矽光子晶片自動測量與CPO降階等多元測試需求。這也標誌著汎銓從研發分析服務，逐步轉型進軍設備銷售市場的重大戰略佈局。
至今影響與未來展望
截至目前，汎銓科技在矽光子故障分析（FA）的分析端市場上，市佔率高達90%以上，幾乎呈現寡占狀態，這讓他們成為整個矽光子故障分析的「入海口」——畢竟，找不到光損位置，後續分析就無從談起。公司廠內建置的三台檢測設備，已分別為大客戶以及美國最大AI公司服務長達六年與兩年，技術成熟度與客戶認同度可見一斑。
展望未來，汎銓董事長柳紀倫堅定表示，無論是引進日本或美國的設備，只要侵犯其核心專利，不論對方公司規模多大，汎銓皆會採取法律行動提告到底，以堅定捍衛公司的智慧財產權。這場專利訴訟不僅關乎汎銓自身的權益，更向全球半導體產業傳遞了一個明確訊息：台灣對於核心技術的保護，將採取最高標準，絕不妥協。
