台灣半導體檢測產業近期浮現專利糾紛，引發業界高度關注。汎銓科技於25日發布重訊，控告光焱科技侵害其第 I870008B 號「光損偵測裝置」發明專利，並求償新台幣兩億元；光焱科技則於26日發布新聞稿嚴正反擊，強調雙方技術世代差異顯著，其核心產品皆為自主研發，營運不受影響，並譴責同業試圖透過媒體干擾市場秩序。
現象觀察：產業專利訴訟再起，市場秩序受挑戰
在半導體產業鏈競爭日益激烈的當下，智慧財產權的攻防戰屢見不鮮。汎銓科技此次對光焱科技提出的專利侵權訴訟，再度將業界目光聚焦於技術創新與法律保護的平衡點。光焱科技發言人廖清霖對此表示，公司截至目前為止，尚未收到任何法院相關訴訟函件，對於同業在未經司法程序前，即試圖透過媒體發布資訊煙霧彈，實則以法律手段干擾市場正常運作、阻礙產業創新之行為，深感遺憾，並對此類不正當之競爭手段予以嚴正譴責。
光焱科技發言人廖清霖表示：「截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。」
光焱科技進一步強調，公司深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，向來極度尊重智慧財產權，所有核心產品均為團隊自主研發，並未且無須使用其他公司之技術與專利。面對此次同業的不實指控與行銷操作，光焱科技聲明公司營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。
原因剖析：技術世代差異與專利涵蓋範圍的爭議
這場專利爭議的核心，在於雙方檢測技術的本質性差異與專利涵蓋範圍的界定。光焱科技指出，汎銓所宣稱的專利，係採用傳統「金相顯微鏡」組成之方案進行光損量測。然而，光焱科技則是基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，此技術可高度整合於客戶端之系統，如探針台、電測機上，直接進行矽光子光學檢測。其中，光損檢測僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。
光焱科技強調：「拿舊時代的金相顯微鏡專利，來告我們新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」
針對汎銓於記者會上宣稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱科技亦提出專業見解予以反擊。經檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因係舉發人當時提出的是更先進的檢測技術與零組件作為證據，主管機關因此認定與汎銓採用之傳統金相顯微鏡技術「無關」。這恰好證明了該專利所保障的僅是舊世代技術，進而明確證實光焱科技採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，自然毫無侵權之疑慮。
影響評估：對產業創新與競爭格局的潛在衝擊
專利訴訟不僅影響涉事企業，更可能對整個產業的創新氛圍與競爭格局帶來深遠影響。光焱科技進一步強調，產業界皆知，「專利」保障的是特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」一詞註冊為商標來買斷市場。若因汎銓針對其舊技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益，此邏輯恐有失偏頗。
例如，近期國際光學大廠蔡司（Zeiss）宣佈進軍光損檢測領域，若依此荒謬邏輯，難道也構成對汎銓的侵權？此案例凸顯了對方說法在產業技術與法律邏輯上皆有失偏頗。這類爭議若未能妥善處理，可能導致市場參與者對投入新技術研發產生疑慮，進而阻礙整個產業的進步。
趨勢預測：矽光子技術發展與智慧財產權保護的未來挑戰
隨著矽光子技術的快速發展，半導體檢測領域正迎來前所未有的技術革新浪潮。新世代的檢測技術，如高光譜成像感測模組，為晶片效能與可靠性驗證帶來了革命性的突破。然而，伴隨技術演進而來的，是智慧財產權保護的複雜性與挑戰。
此次光焱與汎銓的專利爭議，不僅是兩家公司之間的法律攻防，更深層次地反映了新舊技術世代交替時，專利權利範圍認定的艱鉅性。如何在保護既有專利與鼓勵新興技術創新之間取得平衡，將是未來智慧財產權法規與司法實務的重要課題。此案的最終判決，勢必對矽光子檢測領域的專利生態與未來發展產生指標性意義。
