一句話總結：高盛最新報告大膽預測，中國7奈米以下先進製程自給率將在十年內從8%飆升至66%，中芯國際與長鑫儲存將是產能擴張的雙箭頭，但良率從23%爬升到75%的漫漫長路，以及EUV設備的「卡脖子」困境，讓這份樂觀預期更像是場豪賭。
核心要點
- 自給率十倍跳躍：高盛預估中國7奈米及以下先進製程晶圓的自給率，將從2025年的8%躍升至2035年的66%。換句話說，供需缺口將從92%縮小到34%。
- 產能軍備競賽：到了2035年，中國對先進晶圓的月需求將達到61.9萬片，而本土供應量預計能衝上41萬片。其中AI伺服器用的先進晶圓需求年增率更是高得嚇人，預估達42%。
- 中芯國際扛主力：高盛假設中芯在2026至2031年間每年要新增3萬到5萬片月產能，之後四年也維持年增2萬片的速度。這不只是擴產，是擴產馬拉松。
- 良率的殘酷擂台：中芯的良率預計從2026年的23%提升到2035年的75%。但別忘了，台積電7奈米良率可是超過90%——這差距不是靠拚產能就能抹平的。
- 資本支出暴增：高盛將中國半導體2030年資本支出預測一口氣調高到820億美元，比一年前多了79%。這筆錢砸下去，代表從設備到材料都要拚國產。
- 設備自主的硬傷：本土設備商營收占比雖說會從31%爬到38%，但DUV和EUV曝光機依然卡在ASML與美國出口管制的關卡上。這是先進製程中最難啃的骨頭。
- 記憶體戰場：長鑫儲存的月產能可望從27萬片擴到66.5萬片，但技術落後三星、SK海力士的現實短期內不會改變，尤其是EUV設備短缺，讓HBM這塊高階市場還是得看韓國臉色。
講到這裡，你大概也感覺到了——這份報告的數字很漂亮，成長曲線畫得很迷人，但半導體這行從來不是數學遊戲。
真要說，這份預測最大的亮點不是數字，而是背後的「時間差」。高盛用十年來鋪陳這個故事，給了中國半導體一個還算充裕的緩衝期。但問題來了：每年新增3到5萬片產能，同時還要讓良率從23%倍增到75%，這在工程上有多困難？
我這樣說好了，良率提升不是線性成長。從23%拉到50%可能靠製程調整改進，但從50%再往上爬，每一格都是顯微鏡下的苦工。台積電花了多少年才站穩90%？更別說中芯還得在設備受限的環境下追趕，這個「75%」的目標，坦白說，有點像是給資本市場看的信心喊話。
有趣的是，這份報告同時釋放了一個關鍵訊息：中國成熟製程的自給率如果用產量計算已達70%，但用金額算卻依然偏低。這代表什麼？代表他們在低階晶片確實能大量生產，但在高單價、高毛利的高階晶片上，海外供應商還是穩坐釣魚台。這也說明了，為什麼AI晶片明明需求火熱，中國還是得回頭向NVIDIA或AMD採購——不是不想自己做，是現階段真做不出來。
再來看看記憶體這一塊。長鑫儲存的擴產計畫看起來很有企圖心，但HBM這種高頻寬記憶體，偏偏是AI算力不可或缺的關鍵零組件。中國市場預估2028年有40%的HBM需求得靠長鑫滿足，但技術落後加上EUV取得困難，這個40%的數字背後，恐怕得打上好幾個問號。
所以高盛在報告裡的最後補了一句大實話：三星和SK海力士在中國市場的業務空間依然穩固。換句話說，就算中國大力推行國產化，一線大廠在高階記憶體領域的護城河還是很深，短期內撼動不了。
如果從產業面來推演，這份報告其實在告訴我們三件事：第一，中國的產能擴張是玩真的，資本支出狂飆79%不是開玩笑，這個市場未來十年會是全球半導體設備商兵家必爭之地。第二，良率和設備會是永遠的痛，這不是砸錢就能解決的問題，需要時間，也需要技術突破的運氣。第三，台積電的領先地位比想像中更穩——90%的良率對上23%，這不只是數字的差距，是工程文化的差距。
對一般讀者來說，你可能會想：這跟我有什麼關係？關係可大了。未來十年，無論是AI手機、電動車還是智慧家電，只要是跟晶片有關的產品，價格和供貨都會受到這場產能競賽的影響。中國能不能真的把自給率拉到66%，攸關全球半導體供應鏈的重組速度，也攸關你下一支手機會不會變得更貴。
所以，與其把這份報告當成中國半導體的「樂觀前景」，不如把它當成一張十年期的路線圖。路上有產能、有良率、有設備禁令、有技術斷層，每一個關卡都可能讓進度延遲。66%這個數字能不能實現，關鍵不在中芯買了多少設備，而在他們能不能讓每一片晶圓的良率，真的追上那個75%的終點線。
一句話結論
中國先進半導體自給率從8%到66%的劇本寫得很漂亮，但良率從23%到75%的每一步，才是決定這場十年大戲會不會提前落幕的關鍵。
本文改寫整理自公開新聞來源，原始報導由科技新報發布。
常見問題 FAQ
中國先進半導體自給率目前到底是多少？
根據高盛報告，2025年中國7奈米及以下先進製程的自給率僅約8%，代表有92%仍仰賴進口。
中芯國際的良率跟台積電差多少？
中芯國際7奈米良率預估2026年約23%，目標2035年提升至75%，而台積電7奈米良率已超過90%，差距仍然非常大。
為什麼EUV曝光機對中國半導體這麼重要？
EUV曝光機是生產5奈米以下先進晶片的關鍵設備，目前由荷蘭ASML獨家供應，但因美國出口管制，中國幾乎無法取得，直接限制了技術追趕的速度。
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