隨著中國傳出開始生產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機的消息，美股半導體板塊在7月27日普遍下挫。道瓊工業指數上漲262點，收在52210點；那斯達克指數下跌43點，收在24932點；S&P500指數上漲1.2點，收在7413點；費城半導體指數下跌264點，收在11554點。台股ADR方面，台積電ADR下跌1.07%，聯電ADR下跌2.05%，日月光ADR下跌0.79%，中華電信ADR上漲0.77%。
中國DUV晶片生產啟動
根據美國科技新聞媒體The Information的報導，中國已開始生產自研的浸潤式深紫外光曝光機（DUV）。這項晶片製造關鍵設備長期由荷蘭供應商艾司摩爾（ASML）主導。知情人士指出，預計這些DUV設備將於今年交付中國主要晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。
中國過去已能生產部分較低階曝光設備，但浸潤式DUV是製造較先進晶片的關鍵工具，可配合多重圖形化技術向更小製程推進。此次小量生產雖然在曝光精度、穩定性、產能與良率方面仍落後艾司摩爾，但具有供應鏈自主化的象徵意義。
美股半導體板塊受挫
消息傳出後，ASML股價應聲下跌4.6%，收報1429.80歐元，為6月1日以來最低收盤水準。其他美國半導體公司如應用材料（Applied Materials）、科林研發（Lam Research）及科磊（KLA）公司分別下跌4%、4.3%及3.5%。
科技五大巨頭中，蘋果上漲1.17%，收336.91美元；Meta微跌0.22%，收593.87美元；Alphabet上漲2.34%，收326.57美元；亞馬遜跌0.31%，收231.39美元；微軟下跌1.94%，收389.10美元。其餘個股方面，輝達下跌4.99%，AMD下跌5.17%，博通上漲0.34%，美光下跌2.25%。
產業展望與影響
從產業面來看，中國自研DUV晶片的啟動對全球半導體產業格局產生重大影響。中國的技術突破意味著其在高端晶片製造上的自主能力提升，這將減少對外依賴，提高供應鏈的安全性。然而，這也帶來了競爭加劇的風險，特別是在國際市場上。
中國DUV技術的突破雖然仍處於早期階段，但已足以引起全球半導體業的高度關注。未來幾年，隨著技術的逐步成熟，中國在全球晶片市場的份額有望增加，這將對現有市場龍頭如ASML等公司造成壓力。
此外，DUV技術的突破不等同於中國已掌握極紫外光（EUV）技術，EUV設備目前仍處於原型機階段，但在未來的技術發展中，中國的進步值得持續關注。
對投資者而言，這是一次重要的市場信號，提醒大家需密切關注中國半導體產業的動態，並考慮其對全球市場的潛在影響。
本文改寫整理自公開新聞來源，原始報導由Yahoo奇摩新聞發布。
常見問題 FAQ
中國自研DUV晶片的技術水平如何？
中國自研DUV晶片在曝光精度、穩定性、產能與良率方面仍落後荷蘭供應商艾司摩爾（ASML），但已具有供應鏈自主化的象徵意義。
DUV晶片的生產對全球半導體產業有何影響？
中國自研DUV晶片的啟動意味著其在高端晶片製造上的自主能力提升，這將減少對外依賴，提高供應鏈的安全性，但也帶來了競爭加劇的風險。
美股半導體板塊受挫的原因有哪些？
美股半導體板塊受挫的主要原因是中國自研DUV晶片的消息，這引起了市場對全球半導體競爭格局變化的擔憂，特別是對現有市場龍頭如ASML等公司的影響。